1.產(chǎn)品介紹

EDI(Electrodeionization)中文稱為電去離子技術(shù)，是結(jié)合了兩種成熟的去離子技術(shù)——電滲析去離子技術(shù)和離子混床去離子技術(shù)的一種新型成熟水處理技術(shù)。

純水EDI設(shè)備通過獨特的設(shè)計，使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室，使水中雜質(zhì)離子被樹脂吸附，從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到?jīng)]有污染的再生，因此保持活性。而釋放的雜質(zhì)離子將在直流電場的作用下，定向移動，通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。 

這樣一個純化過程持續(xù)的進行：純化——>再生——>純化…,達到持續(xù)有效生產(chǎn)高純水的目的。

2.產(chǎn)品特點

2.1.產(chǎn)水水質(zhì)高，產(chǎn)水穩(wěn)定度高。

2.2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。

2.3.模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)全自動控制。

2.4.無須酸堿再生，無污水排放。

2.5.無酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲運。

2.6.設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

2.7.運行費用及維修成本低。

2.8.運行操作簡單，勞動強度低

3.設(shè)備進水要求

反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率小于20μs/cm。

pH值：7.5—9

溫度：15℃--35℃

進水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa

進水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）

進水有機物：TOC＜0.5ppm

進水硅：SiO2＜0.5ppm

進水總CO2：＜3ppm

進水顆粒度：＜1μm

4.設(shè)備技術(shù)參數(shù)

5.工藝流程